某半导体材料制作行业因晶圆擦洗环节形成含氨工业废水，容量200吨/天。工业废池中除高锰酸盐指数外还有氟化物和微量分析高价属，补救困难大。当地人尾气排放规定需求高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废污水成分表及源 晶圆洁净废气（重要原因）：含氧化还原电位200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工艺污水：含微量分析铜、镍等高价属，pH值跌涨大 CMP考虑废水处理工艺：含硅颗粒剂及氯离子 除理工艺设计工作流程 运用"化学上奠定+膜破乳+折点氯化"乐队组合艺： 预进行处理 ：加药系统CaCl2除氟，操纵pH在7.5-8. 反渗透装置体统 ：消除0.01μm超过粉末物 反融入溶缩 ：将氯离子精提至1000mg/L上述 折点氯化 ：明确管控氯添加量，将挥发酚转为为N2 亚铁离子互相交换 ：有保障高价属达到 进而效果好 化学需氧量平稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属分量不超过的检测限 水中水回用率达75% 淤泥制造量增多40%