该晶圆制造技术厂建在西北位置，最主要出产89英寸半导体材料晶圆，单日电镀废水进行排放口量约800吨。在出产的时候中操作很多盐酸采取晶圆蚀刻，促使电镀废一般的水都氟化物渗透压更是高达200-300mg/L，远超政府进行排放口细则（10mg/L如下）。 生活污水成份及的来源 生活污水包括源于5个关键环节： 晶圆蚀刻流程 ：含高溶液浓度氟化物（HF）、硝酸银及极富巨资属 化学式物理镜面抛光（CMP）废水处理工艺 ：含奈米级硅粉末、可挥发络合剂 机械设备清晰废液 ：含异丙醇、氟化物等有机会物 整理生产工艺方案 分为"物理放置+混疑放置+强度过滤清洁"一级补救机系统： 1阶段除理 ：污泥脱水氯化钙和氢硫化钙，演变成氟化钙沉定，氟化物清除率达85% 两级办理 ：增长PAC（缩聚氯化铝）和PAM（聚乙烯塑料酰胺），快速清理固体态环境破坏物 3级操作 ：能够多导电介质进行全自动过滤器中和催化活性炭包吸出，留水氟化物酸度比较稳定在8mg/L下列 主要系统软件比如：pH自動调节器系统软件、斜管沉淀物中池、板框隔膜压滤机（生活污水甩干）。 不可能感觉 工作运转五年检测资料表现： 氟化物最低值氧化还原电位：7.2mg/L（不超过国度准则） COD清除率：92% 淤泥含水分率：≤65% 年回收公司氟化钙副產品约150吨，体现资原化再生利用